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产品介绍

日本大亚真空微波 CVD 装置


日本大亚真空微波 CVD 装置

发布时间:2025-09-01

作者:爱锐精密科技(大连)有限公司

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产品描述:用途:薄膜成膜、表面处理标准规格:反应室尺寸 140×H200mm;微波电源 2.45GHz 0.5-3kW;模式变换器 TE10→TM01;气体导入系统 MFC 2-4 系列

日本大亚真空微波 CVD 装置

  • 用途:薄膜成膜、表面处理

  • 标准规格:

  • 反应室尺寸 140×H200mm;

  • 微波电源 2.45GHz 0.5-3kW;

  • 模式变换器 TE10→TM01;

  • 气体导入系统 MFC 2-4 系列

  • (详细规格可协商)

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