CMP 研磨垫，抛光垫， CMP PAD， 氨基甲酸乙酯研磨垫（日本产）

本产品是由日本东丽（TORAY）公司开发生产的聚氨酯材料加工而成，材料本身具有独立气泡特性，精度高，构造单一的特点。  适合于电脑硬盘的玻璃磁碟基材，液晶面板材料，半导体曝光罩（MASK），半导体CMP，各种玻璃类的研磨。

产品特点：

1，树脂的硬度，氧化铈含量，发泡比率，厚度等可以根据用户的研磨条件进行调整。

2，含氧化铈与不含的型号均可以提供。

3， 硬度，密度范围大。  硬度７５～９５（ＴＹＰＥ－Ａ），密度０．４～０．８５ｇ／ｃｍ ³

含有氧化铈研磨料的抛光垫的扩大照片	含有氧化铈研磨料的抛光垫的扩大照片

KEYWORDS：半导体行业CMP研磨消耗材，CMP 研磨垫，抛光垫， CMP PAD， 氨基甲酸乙酯研磨垫， TORAY，CIEGAL ,阻尼布，鹿皮研磨垫， 千代田株式会社， 1900W， 7355-000FE，玻璃抛光， 陶瓷抛光，