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SIC(碳化硅)涂层加工

爱锐精密科技(大连)有限公司提供CVD-SIC(碳化硅)表面涂层加工服务。

同时我们还提供TaC(碳化钽)涂层加工,PG(Pyrolytic Graphite,热解石墨,热解碳)涂层加工,GC(Glassy Carbon,玻璃碳)含浸加工等高温耐氧化涂层加工服务。

● CVD-SIC涂层加工服务介绍:

CVD-SIC涂层具有结构均匀,材质致密,耐高温、抗氧化、纯度高和耐酸碱盐及有机试剂等特性,物理化学性能稳定。

与高纯度石墨材料相比,高纯石墨材料在400℃环境下开始发生氧化,长期使也会因氧化而掉粉末,造成周边器件,真空腔体内的环境污染,增加高纯环境的杂质。但SIC涂层可以在1600度环境下保持物理,化学性能稳定,现代工业,特别是半导体工业中得到广泛应用。最为突出的使用例为LED生产中的MOCVD的晶圆托盘,长期在1200度环境下使用亦可保持稳定性。其它行业也有逐渐取代单纯的高纯石墨材料的趋势。
本公司提供的SIC涂层(镀层)加工服务是以CVD(化学气相沉积)法在石墨,陶瓷等材料表面,使含碳与硅的特使特种气体在高温下发生化学反应,得到高纯度SIC分子,分子沉积在被涂材料表面,形成SIC保护层。形成的SIC牢牢巴结在石墨基体上,赋予石墨基体特殊的性能,从而使石墨基座表面致密、无孔隙、耐高温、抗溶蚀、抗氧化。
CVD-SIC加工

CVD-SIC涂层加工图解

 

● 主要特点:
1.高温抗氧化:抗氧化,温度高达1600℃时抗氧化性能仍然非常好。
2.纯度高:高温氯化条件下化学气相沉积方法制得的。
3.耐冲刷:硬度高、表面致密、颗粒细。
4.抗腐蚀性:耐酸、碱、盐及有机试剂。
CVD-SIC反应原理

CVD-SIC涂层形成过和示意图(原理图)

 

● CVD-SIC涂层的主要规格:

材質記号 SiC-CVD
比重 (g/cc) 3.21
曲げ強度 (Mpa) 470
熱膨張 (10-6/K) 4
熱伝導 (W/mK) 300

 

● CVD-SIC涂层的产品应用:
单晶硅外延生长用的石墨基座涂层,平板基座、圆形基座、立体基座的涂层。

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