CMP 研磨垫，抛光垫， CMP PAD， 氨基甲酸乙酯研磨垫（日本产）

日本进口TORAY半导体抛光垫，研磨垫，阻尼布

 

采用高分子树脂合成与湿式制膜加工技制得的高品质研磨抛光垫。

 

 

产品特点:

・材料的亲水性:

   采用特殊冒泡聚氨基甲酸酯,对于抛光液的濡湿性(亲水性）出众.

・基层纤维厚度的均一性:

   抛光压力及抛光液的流动量均一

・起泡的泡囊长度均一性:

   抛光压力及抛光液的流动量均一以及抛光效率的均一性高

・起泡的泡囊形状均一性:

   抛光液的含量均一,因此抛光效率均一性高

・起泡的泡囊的开口口径均一性:

   抛光效率均一性高

・基层材料采用微细纤维,厚度均一性及压力均一性都优越，抛光效率高

・绒毛长度更长,良好的亲水性和抛光液流动率,通过减薄工艺,更好保持抛光后的面型精度

・兼容性好,蓝宝石,水晶,晶片的精抛光用

 

TORAY CIEGAL 研磨垫（阻尼布）物理特性：

品名	CIEGAL 7355-000FE	CIEGAL EC8410	CIEGAL 25-0E	CIEGAL 25-3E	CIEGAL 25-3L
重量（g/m2)	510±100	500±80	475±80	467±120	560±50
厚度（mm）	1.49±0.10	1.50±0.10	1.45±0.15	1.45±0.23	1.37±0.10
压缩弹性率（%）	74±15	70±15	71±20	71±25	75±8
压缩率（%）	3.3±1.0	2.9±1.1	3.7±1.5	3.4±2.3	3.0±0.8
C硬度（Asker c)	58±5	58±5	56±5	58±5	70±3
Nap Layer(um)	530±80	530±100	500±80	500±80	500±80
开口径（um）	65±20	70±20	80±20	80±20	80±20
摩擦系数（顺）	---	---	---	---	---
摩擦系数（逆）	---	---	---	---	---
应用	Si(硅)晶圆及液晶面板的表面抛光	Si(硅）, GaAs（砷化镓）,GaP（磷化镓），蓝宝石晶圆的表面抛光	Si（硅）晶圆二次研磨，Al板的NiP（磷化镍）镀层的表面抛光

品名	CIEGAL 27-3	CIEGAL 125-000-13	CIEGAL 8103	CIEGAL 7455-006
重量（g/m2)	320±30	416±48	200±30	470±50
厚度（mm）	0.98±0.10	1.30±0.10	0.65±0.05	1.25±0.10
压缩弹性率（%）	73±15	85±15（参考）	---	---
压缩率（%）	4.0±2.0	7.0±3.0（参考）	---	---
C硬度（Asker c)	67±5	59±8	---	---
Nap Layer(um)	570±70	---	---	---
开口径（um）	70±30	---	---	---
摩擦系数（顺）	---	---	0.95±0.15	0.83±0.12
摩擦系数（逆）	---	---	0.92±0.15	0.83±0.12
应用	光学滤镜的抛光	一般研磨垫	刹车片材

TORAY CIEGAL 研磨垫（阻尼布）化学特性

品名	CIEGAL 7355-000FE	CIEGAL 25-0E，25-3E，25-3L	CIEGAL 125-000-13
耐酸性（盐酸）	○ PH值（2-7）	○ PH值（1-7）	○ PH值（1-7）
耐碱性（氧氧化钠）	○ PH值（7-11）	○ PH值（7-13）	○ PH值（7-13）
耐氧化性（次氯酸钠）	○	△	○
耐热性（软化点）	190℃	190℃	190℃

KEYWORDS：研磨抛光垫，阻尼布，研磨抛光垫，阻尼布，蓝宝石抛光垫，半导体行业CMP研磨消耗材，CMP 研磨垫，抛光垫， CMP PAD， 氨基甲酸乙酯研磨垫， TORAY，CIEGAL ,阻尼布，鹿皮研磨垫， 千代田株式会社， 1900W， 7355-000FE，玻璃抛光， 陶瓷抛光，