1.日本大明化学工业株式会社99.99%氧化铝粉

高纯度氧化铝粉TM-DAR是日本大明化学工业经过长年的技术积累培育出的氧化铝化合物合成技术而制成的，高纯度，超微细化的精密陶瓷粉体。
TM-DAR是在铵片钠铝石(NH4AlCO3(OH)2)的合成基础上开发出的高纯度粉体，α-氧化铝、迁移氧化铝、其他以氧化铝为基础生成的高纯度复合氧化物等类型，也可以根据用途和客户要求提供相应的产品。

用途：

1.高强度材料：切削工具，轴承，人工骨骼、牙齿等；

2.电子材料：IC基板，传感器等；

3.光学材料：透明陶瓷，红宝石（ruby）,YAG（多用于激光技术的钇铝石榴石）

4.其他材料：研磨材料，合成尖晶石，触媒担体等

低温烧结性氧化铝TM-D系列

TM-D系列是一次粒子形成的微细的单粒子化，在1300℃以下的温度中烧结形成的致密的高纯度a-氧化铝粉体。

 

其特征：

1. 99.99%以上高纯度超微细粉体

TM-DA、TM-DAR与TM-D、TM-DR相比，纯度更高。

2.低温烧结，结构致密

在1250℃-1300℃的温度下烧结而成，达到理论密度的98%以上，致密程度极高。

3.可用于制造充分体现氧化铝性能的陶瓷产品

可以用来制造高强度、高硬度、耐磨性及耐腐蚀性优异的高端陶瓷

4.可用于制造透明陶瓷

通过HIP烧结等可以制成透明陶瓷。

 

■代表特性值

型号		TM-D	TM-DA	TM-DAR	TM-5D
结晶型		α-氧化铝	α-氧化铝	α-氧化铝	α-氧化铝
BET比表面积	m²/g	13.5	13.5	14.5	9.0
1次粒子径*1	µm	0.10	0.10	0.10	0.20
松装密度	g/cm³	0.8	0.8	0.9	0.8
振实密度	g/cm³	0.9	0.9	1.0	0.8
成形密度*2	g/cm³	2.2	2.2	2.3	2.3
烧结密度	g/cm³	3.95*3	3.95*3	3.96*3	3.93*4

*1：SEM照片测定
*2：1轴冲压成形(98MPa)
*3：1350℃/h烧结(Ar气氛围气)
*4：1400℃/h烧结(Ar气氛围气)

3.迁移氧化铝

γ、θ－氧化铝为主相的氧化铝。

■特点

1. 粒子极细，具有较高的表面积比的粉体。
2. 高活性，反应性优良。

■代表特性值

型号		TM-100	TM-300	TM-100D	TM-300D
结晶型		θ-氧化铝	γ-氧化铝	θ-氧化铝	γ-氧化铝
BET比表面积	m²/g	120	220	120	200
1次粒子径*1	µm	0.014	0.007	0.014	0.010
松装密度	g/cm³	0.15	0.05	0.40	0.40
振实密度	g/cm³	0.18	0.08	0.60	0.60

*1：SEM照片测定

4.造粒粉 TM-DS系列

TM-DS系列、TM-D系列的粉体是干式加压成形及射出成型用的喷雾干燥形成的造粒粉。
下记的代表的型号以外的其它种类的特性产品也可以提供。
根据客户的要求可以进行特殊规格的造粒加工。

■特点

型号		DS-6	DS-25	DS-311-1	DS-5D-31	DS-90M	DS-92M
主要粘合剂		-	丙烯酸树脂	丙烯酸树脂	丙烯酸树脂	丙烯酸树脂	丙烯酸树脂
MgO添加量	ppm	-	-	-	-	500	500
强热减量*1	%	1	5	7	6	3	5
可塑性		◎	◎	△	○	◎	◎
成形密度*2	g/cm³	2.25	2.35	2.35	2.35	2.35	2.35
烧结温度	g/cm³	3.94*3	3.95*3	3.93*3	3.93*4	3.95*3	3.95*3
离型性		○	◎	○	○	○	◎
加工性		△	◎	◎	◎	○	◎

◎:优 ○:良 △:可

*1：1000℃/h烧结
*2：1轴冲压成形(98MPa)
*3：1350℃/h烧结(Ar气氛围气)
*4：1400℃/h烧结(Ar气氛围气)

 

5.特殊规格

■Al2O3-ZrO2混合粉体

■其它

6.技术数据

■代表性化学分析值
高纯度氧化铝纯度99.99%以上。(ICP发光分析法)

Al2O3(%)	杂质(ppm)
	Si	Fe	Na	K	Ca	Mg	Cu	Cr	Mn	U	Th
>99.99	10	8	8	3	3	2	1	<1	<1	<0.004	<0.005

■粒度分布

各规格粒度分布(激光回折分析法)

■烧结特性

KEYWORDS：

高纯氧化铝粉体，超高纯度氧化铝粉，99.99%高纯度化铝，日本大明化学工业TM-DAR氧化铝粉，透明陶瓷，极细氧化铝粉，氧化铝微粉，煅烧a氧化铝粉，氧化铝粉批发,氧化铝粉供应,氧化铝粉价格,氧化铝粉促销